電阻式RAM:TB級(jí)容量 比閃存快20倍
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容量大、制造工藝成熟的NASA閃存已經(jīng)成為整個(gè)手機(jī)存儲(chǔ)器行業(yè)的標(biāo)準(zhǔn),不過(guò),在未來(lái)幾年內(nèi),它將遇到前所未有的挑戰(zhàn)。
美國(guó)加州創(chuàng)業(yè)公司Crossbar日前推出一種超大容量、高性能非易失性存儲(chǔ)技術(shù)"Crossbar Resistive RAM"(電阻式記憶體,RRAM),它是一種可以用于電腦和移動(dòng)設(shè)備的內(nèi)部存儲(chǔ)器,可用現(xiàn)有半導(dǎo)體工藝制造,速度相比現(xiàn)在的NAND閃存要快上許多,讀寫(xiě)時(shí)還非常節(jié)能。 RRAM號(hào)稱可以在200平方毫米大小(基本上就相當(dāng)于個(gè)拇指蓋)的半導(dǎo)體芯片里存下最多1TB數(shù)據(jù),相比之下,現(xiàn)在手機(jī)所使用的NAND閃存在同等面積下的存儲(chǔ)容量大概只有其1/8。如果這種技術(shù)得以推廣,未來(lái)移動(dòng)設(shè)備存儲(chǔ)容量將得到極大提高。 RRAM的另一個(gè)優(yōu)勢(shì)就是實(shí)用。Crossbar聲稱它根本無(wú)需專用的半導(dǎo)體工藝,沿用現(xiàn)有的閃存、內(nèi)存CMOS電路產(chǎn)線即可完成制造,他們已經(jīng)在第三方晶圓廠內(nèi)開(kāi)發(fā)出了可工作的Crossbar存儲(chǔ)陣列,從而邁出了投入商用的里程碑一步。 從原理上來(lái)說(shuō),Crossbar RRAM高密度存儲(chǔ)的秘密在于3D堆疊結(jié)構(gòu),下圖中類(lèi)似層層堆疊的鐵軌一樣的物體就是RRAM的存儲(chǔ)單元,頂部和底部是點(diǎn)擊,中間是交換媒介,一個(gè)小"方格"就是一個(gè)存儲(chǔ)數(shù)據(jù)的基本電路。 Crossbar RRAM的另一項(xiàng)優(yōu)勢(shì)在于將控制器直接集成到了存儲(chǔ)單元之中,延遲和互聯(lián)帶寬都要比閃存芯片低得多,Crossbar聲稱這種新型存儲(chǔ)技術(shù)能帶來(lái)20倍的讀寫(xiě)性能(140MB/s VS. 7MB/s)、10倍的可靠性和耐用性(125℃下十年VS. 85℃下一至三年)、1/20的功耗,而內(nèi)核面積可以小一半還要多——官方數(shù)據(jù)是同樣的25nm 8GB,NAND閃存需要167平方毫米,RRAM只需77平方毫米,其使用壽命也10倍于NAND,可以說(shuō)是一種完美的高速存儲(chǔ)器。 Crossbar還表示,這種存儲(chǔ)器還可以以陣列的方式運(yùn)行,他們計(jì)劃將這項(xiàng)技術(shù)授權(quán)給其它公司使用,目前30余項(xiàng)專利已經(jīng)被授予。 Crossbar目前已經(jīng)完成了RRAM原型芯片的流片,首款產(chǎn)品將會(huì)面向嵌入式SoC市場(chǎng),并向SoC廠商開(kāi)放技術(shù)授權(quán)。Crossbar認(rèn)為RRAM的適用范圍極廣,包括消費(fèi) 電子、手機(jī)、平板機(jī)、企業(yè)存儲(chǔ)、固態(tài)硬盤(pán)、云計(jì)算、工業(yè)聯(lián)網(wǎng)設(shè)備、損耗計(jì)算、安全支付等等,基本上NOR、NAND存在的地方都可以涉足。 原文地址:http://iphone.myzaker.com/l.php?l=52049a8d7f52e98358000080 該文章在 2013/8/10 7:21:48 編輯過(guò) |
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